SAN JOSE, California - NVIDIA ha annunciato oggi di aver stretto una partnership con Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) e Synopsys per portare in produzione la sua piattaforma di litografia computazionale, NVIDIA cuLitho. Questa collaborazione ha lo scopo di accelerare il processo di produzione dei chip a semiconduttore avanzati.
L'integrazione di NVIDIA cuLitho con i sistemi di TSMC e Synopsys è destinata a migliorare la produzione di chip e a supportare le prossime GPU con architettura NVIDIA Blackwell. Jensen Huang, CEO di NVIDIA, ha dichiarato che la partnership sfrutta l'elaborazione accelerata e l'intelligenza artificiale generativa per migliorare la scalabilità dei semiconduttori.
La litografia computazionale, un elemento critico nella produzione di chip, è tradizionalmente un'attività ad alta intensità di CPU, che richiede ingenti risorse di calcolo. NVIDIA sostiene che l'uso della sua piattaforma accelerata da GPU può ridurre significativamente il tempo e le risorse necessarie per questo processo. Ad esempio, secondo l'azienda, 350 sistemi NVIDIA H100 potrebbero sostituire fino a 40.000 sistemi CPU.
TSMC ha segnalato sostanziali miglioramenti delle prestazioni, un aumento del throughput e una riduzione dei requisiti energetici grazie all'integrazione del GPU Accelerated Computing nel proprio workflow. Il Dr. C.C. Wei, CEO di TSMC, ha dichiarato che l'utilizzo di NVIDIA cuLitho è stato determinante per la scalabilità dei semiconduttori.
Anche Synopsys ha visto i benefici della collaborazione, con i suoi prodotti software di sintesi di maschere Proteus che girano sulla piattaforma di NVIDIA per accelerare i carichi di lavoro di calcolo. Sassine Ghazi, presidente e CEO di Synopsys, ha sottolineato l'importanza di questa partnership per consentire la scalabilità a livello di angstrom e ridurre i tempi di consegna.
NVIDIA ha introdotto nuovi algoritmi di intelligenza artificiale generativa che migliorano ulteriormente la piattaforma cuLitho, offrendo un'ulteriore accelerazione di due volte in aggiunta ai processi accelerati. Questo workflow guidato dall'intelligenza artificiale consente di creare maschere inverse quasi perfette, in grado di semplificare il processo di correzione ottica di prossimità (OPC).
L'integrazione di cuLitho nella produzione è un passo avanti per affrontare la crescente complessità e le richieste computazionali della produzione avanzata di semiconduttori. Questa partnership dovrebbe facilitare lo sviluppo di nuove tecnologie per i chip su scala 2nm e oltre.
Questo annuncio si basa su un comunicato stampa di NVIDIA.
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